Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал:
http://repo.uipa.edu.ua/jspui/handle/123456789/5216
Повний запис метаданих
Поле DC | Значення | Мова |
---|---|---|
dc.contributor.author | Антоненко, Н.С. | - |
dc.contributor.author | Прокопенко, О.О. | - |
dc.date.accessioned | 2016-10-05T08:18:36Z | - |
dc.date.available | 2016-10-05T08:18:36Z | - |
dc.date.issued | 2016-10 | - |
dc.identifier.uri | http://repo.uipa.edu.ua/jspui/handle/123456789/5216 | - |
dc.description.abstract | Роботу присвячено дослідженню основних макроскопічних властивостей вхідних кіл приймальних трактів радіотехнічних і телекомунікаційних систем НВЧ діапазону іонізованого середовища. Як відомо, всередині хвилеводу за рахунок електричного поля електромагнітної хвилі, яка проходить по хвилеводу, буде створюватися деяка іонізація газу, що знаходиться всередині хвилеводу з щільністю електронів, яка є відповідною розподілу електричного поля всередині хвилеводу. | en_US |
dc.description.sponsorship | УІПА | en_US |
dc.language.iso | other | en_US |
dc.subject | електричне поле | en_US |
dc.subject | електромагнітні хвилі | en_US |
dc.subject | іонізація газу | en_US |
dc.subject | хвилеводу | en_US |
dc.subject | слабоіонізована плазма | en_US |
dc.title | ВИЗНАЧЕННЯ ЕЛЕКТРОПРОВІДНОСТІ СЛАБОІОНІЗОВАНОЇ ПЛАЗМИ ПРИ ВПЛИВІ СЛАБКОГО ЕЛЕКТРИЧНОГО ПОЛЯ | en_US |
dc.type | Other | en_US |
Розташовується у зібраннях: | Наукові видання (Факультет енергетичнйи) |
Файли цього матеріалу:
Файл | Опис | Розмір | Формат | |
---|---|---|---|---|
AntonenkoProkopenko.docx | 24,01 kB | Microsoft Word XML | Переглянути/Відкрити |
Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.